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真空离子束溅射系统是真空镀膜设备的一种，它指的是一类需要在一定真空环境下进行的镀膜。离子镀膜机的原理和真空镀膜机的类似，这里就不多加赘述了。今天，给大家简单介绍下离子束溅射系统较常使用的离子镀的类型及特点。
1、电阻加热或电子束加热蒸发源
①直流放电二极型
特点：绕射性好，附着性好，基板温度易上升，膜结构及形貌差，若用电子束加热必须用差压板。
②多阴极型
特点：采用低能电子离化效率高，膜层质量可控制。
③射频放电离子镀
特点：不纯气体少，成膜好，化合物成膜更好。匹配较困难。
2、电子束加热蒸发源
①活性反应蒸镀
特点：蒸镀效率高，能获得三氧化二铝、TiN等薄膜。
②增强的ARE型
特点：易离化，基板所需功率和放电功率能独立调节，膜层质量、厚度都容易控制。
③低压等离子镀
特点：结构简单能获得TiC、TiN等化合物镀层。
④电场蒸发
特点：带电场的真空蒸镀，镀层质量好。
3、等离子电子束
空心阴极放电离子镀
特点：离比效率高，电子束斑较大，金属膜、介质膜、化合物膜都能镀。
